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        感應耦合等離子化學氣相沉積

        免費樣品檢驗 48小時發貨 工廠直銷
        300萬-1000萬

        產品規格:沉積工藝、特定溫度范圍內制備高質量薄膜

        公司所在地:重慶

        產品庫存:現貨及定制

        可供貨地區:全國

        其他說明:

        SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先進的設備配置。

        展開

        SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先進的設備配置。收起

        品牌:
        SENTECH
        型號:
        SI 500D
        功能:
        沉積工藝、制備高質量薄膜
        用途范圍:
        適用于器件的生產和研發應用
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