深硅刻蝕機(jī)國際招標(biāo)澄清或變更公告(1)

澄清或變更簡要說明：變更招標(biāo)文件
點擊登錄查看受招標(biāo)人委托對下列產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)行國際公開競爭性招標(biāo)，于****在中國國際招標(biāo)網(wǎng)發(fā)布變更公告。本次招標(biāo)采用傳統(tǒng)招標(biāo)方式，現(xiàn)邀請合格投標(biāo)人參加投標(biāo)。
1、招標(biāo)條件
項目概況:名稱：深硅刻蝕機(jī)
數(shù)量：1臺
原理及用途：
基本原理：把射頻能量通過頂部線圈感應(yīng)產(chǎn)生的磁場耦合到腔體內(nèi)，交變磁場在真空環(huán)境中使氣體電離而形成等離子，底部射頻產(chǎn)生直流偏壓，頂部射頻控制離子濃度而底部射頻控制離子能量，加速離子到達(dá)硅片表面產(chǎn)生物理和化學(xué)的刻蝕反應(yīng)。
用途：本設(shè)備主要用于MEMS產(chǎn)品中各種硅槽刻蝕。
資金到位或資金來源落實情況:已到位
項目已具備招標(biāo)條件的說明:已具備
2、招標(biāo)內(nèi)容
招標(biāo)項目編號:****
招標(biāo)項目名稱:深硅刻蝕機(jī)
項目實施地點:中國安徽省
招標(biāo)產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):

序號	產(chǎn)品名稱	數(shù)量	簡要技術(shù)規(guī)格	備注
1	深硅刻蝕機(jī)	1	對于6/8英寸晶圓片，1.2μmTrench硅刻蝕@負(fù)載面積≤5%應(yīng)滿足以下指標(biāo) （1）刻蝕深寬比：≥14:1； （2）刻蝕均勻性：≤5%（片內(nèi)），≤5%（片間），≤5%（批間）。其他參數(shù)詳見第八章	無

3、投標(biāo)人資格要求
投標(biāo)人應(yīng)具備的資格或業(yè)績:①投標(biāo)人如為境內(nèi)企業(yè)，提供企業(yè)法人營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書，如為境外企業(yè)提供企業(yè)注冊登記證。
②投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家，也可以是設(shè)備授權(quán)代理商，代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書。
③投標(biāo)人開戶行開具的，出具日期在開標(biāo)前三個月內(nèi)的資信證明原件或該原件的復(fù)印件。
④投標(biāo)人需要具有履行合同所必需的設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力（提供相關(guān)證明材料或承諾書，承諾書格式自擬）。
⑤單位負(fù)責(zé)人授權(quán)書原件。
是否接受聯(lián)合體投標(biāo):不接受
未領(lǐng)購招標(biāo)文件是否可以參加投標(biāo):不可以
4、招標(biāo)文件的獲取
招標(biāo)文件領(lǐng)購開始時間:****
招標(biāo)文件領(lǐng)購結(jié)束時間:****
是否在線售賣標(biāo)書:否
獲取招標(biāo)文件方式:現(xiàn)場領(lǐng)購
招標(biāo)文件領(lǐng)購地點：蘇美達(dá)大廈9樓西側(cè)（南京市****
招標(biāo)文件售價:￥2000/$225
其他說明:每天9：00—11：30，14：00—17：30（北京時間，節(jié)假日除外）不購買招標(biāo)文件的不得參加投標(biāo)。聯(lián)系人郵箱：****@sumec.com.cn。
5、投標(biāo)文件的遞交
投標(biāo)截止時間（開標(biāo)時間）:**** 09:30
投標(biāo)文件送達(dá)地點:安徽省蚌埠市****
開標(biāo)地點:安徽省蚌埠市****
6、聯(lián)系方式
招標(biāo)人:點擊登錄查看
地址:安徽省蚌埠市****
聯(lián)系人:點擊登錄查看
聯(lián)系方式:****
招標(biāo)代理機(jī)構(gòu):點擊登錄查看
地址:南京長江路198號9樓
聯(lián)系人:江岳峰/朱志云/周 翠
聯(lián)系方式:****、****
7、匯款方式:
招標(biāo)代理機(jī)構(gòu)開戶銀行(人民幣):
招標(biāo)代理機(jī)構(gòu)開戶銀行(美元):
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